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[1]刘晓燕,李坚,吕玉国,等.铜电解中添加剂的检测[J].有色金属科学与工程,2008,(03):26-28.
 LIU Xiao-yan,LI Jian,LV Yu-guo.Determination of Additives in Copper Electrolyte[J].,2008,(03):26-28.
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铜电解中添加剂的检测(/HTML)
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《有色金属科学与工程》[ISSN:1674-9669/CN:36-1311/TF]

卷:
期数:
2008年03期
页码:
26-28
栏目:
出版日期:
2008-06-20

文章信息/Info

Title:
Determination of Additives in Copper Electrolyte
作者:
刘晓燕;李坚;吕玉国;
昆明理工大学材料与冶金工程学院;
Author(s):
LIU Xiao-yanLI JianLV Yu-guo
Faculty of Metallurgical and Materials Engineering,Kunming University of Science and Technology,Kunming 650093,Yunnan,China
关键词:
铜电解添加剂测定过电位
分类号:
TF811
DOI:
-
文献标志码:
A
摘要:
对于铜和酸浓度相对稳定的铜电解系统来说,添加剂是影响阴极铜质量的主要因素。然而,目前铜电解生产中主要还是通过观察阴极的沉积状况,凭经验控制添加剂的加入量。准确测定电解液中添加剂的浓度,将有助于通过控制和调节添加剂的最佳浓度,在高电流密度下获得致密光滑的阴极铜产品。笔者介绍了铜电解液中明胶、硫脲、氯离子的测定方法以及通过控制阴极过电位对添加剂的控制方法。

参考文献/References:

-

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备注/Memo

备注/Memo:
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更新日期/Last Update: 2008-09-10